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合作案例

清華大學(xué)采購PLUTO-T等離子清洗機(jī) 清華大學(xué)調(diào)研了眾多等離子表面處理設(shè)備，最終選擇了上海沛沅生產(chǎn)的Pluto-T等離子清洗機(jī)/表面處理機(jī)。根據(jù)客戶的技術(shù)要求，提供了可以滿足老師所有技術(shù)參數(shù)要求的Pluto-T等離子清洗機(jī)/表面處理機(jī)，以下為該設(shè)備的安裝調(diào)試圖。
上海交大采購PLUTO-MC沉積鍍膜設(shè)備 2020年12月，上海交通大學(xué)采購我司PLUTO-MC沉積鍍膜設(shè)備。該設(shè)備采用13.56MHz射頻，涂覆面積為150*150mm，具備良好的穩(wěn)定性與可重復(fù)性。
電子科技大學(xué)采用Pluto-MD等離子去膠機(jī)進(jìn)行晶圓去膠電子科技大學(xué)已采購多臺等離子設(shè)備，包括PLUTO-T等離子清洗機(jī)，PLUTO-MD等離子去膠機(jī)等，用戶反饋良好。主要涉及的應(yīng)用有：晶圓光刻膠的去除、電子半導(dǎo)體樣品表面有機(jī)物的去除、多功能微納結(jié)構(gòu)寬帶吸收器的表面處理等等。

新聞中心

企業(yè)新聞| CORPORATE NEWS

: 如何實(shí)現(xiàn)等離子表面處理機(jī)穩(wěn)定、安全的運(yùn)行？

選擇等離子表面處理機(jī)時(shí)，需綜合考慮技術(shù)性能、應(yīng)用需求、操作便捷性、安全性等多方面因素，以確保設(shè)備能夠滿足實(shí)際生產(chǎn)或研發(fā)需求，并實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定、安全的運(yùn)行。一、技術(shù)性能...
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技術(shù)文章| Technical articles

: 小型等離子清洗機(jī)能夠在不損傷材料的前提下進(jìn)行快速清理

小型等離子清洗機(jī)是一種利用低溫等離子體技術(shù)對材料表面進(jìn)行高效清潔、活化或改性的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于微電子、醫(yī)療器械、精密儀器、科研實(shí)驗(yàn)等領(lǐng)域。其核心原理基于等離子體的物理和化學(xué)作用，能夠在不損傷材料的前提下，去除表面污染物、增強(qiáng)表面能、提高附著力。以下是其原理及優(yōu)點(diǎn)的詳細(xì)分析：氣體電離：在真空腔體內(nèi)，通過射頻(RF)電源或微波電源激發(fā)惰性氣體(如氬氣Ar、氦氣He)或反應(yīng)性氣體(如氧氣O2、氮?dú)釴2、氫氣H2)，使其電離形成等離子體。等離子體特性：等離子體由高能電子、離子、自由基...
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應(yīng)用案例

01 等離子清洗
等離子清洗特點(diǎn)是不分處理對象的基材類型，均可進(jìn)行處理，對金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料等都能很好地進(jìn)行超清洗。

圖為PLUTO-T等離子清洗機(jī)對陶瓷基板上銀氧化層的清洗實(shí)例。
02 等離子去膠
等離子清洗機(jī)可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除，以及去除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件表面的光阻材料等。

圖為PLUTO-MD等離子去膠機(jī)對PCB板和硅片的去膠實(shí)例。
03 等離子活化改性
改善粘合力-用于光學(xué)元件、生物醫(yī)學(xué)、封裝領(lǐng)域等；
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等，增強(qiáng)表面粘附性、浸潤性、相容性；

圖為PLUTO-M對線路板、橡膠管和手機(jī)膜的表面改性實(shí)例。
04 等離子刻蝕
等離子刻蝕是干法刻蝕中常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，電離氣體原子通過電場加速時(shí)，會釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。

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